Ang Chip MBE Project Nakumpleto sa Nakalipas na Taon

Teknolohiya

Ang molecular beam epitaxy, o MBE, ay isang bagong pamamaraan para sa lumalaking mataas na kalidad na manipis na mga pelikula ng mga kristal sa mga kristal na substrate. Sa ultra-mataas na mga kondisyon ng vacuum, sa pamamagitan ng pag-init ng kalan ay nilagyan ng lahat ng mga uri ng kinakailangang mga bahagi at bumuo ng singaw, sa pamamagitan ng mga butas na nabuo pagkatapos ng collimating beam atomic o molekular beam, direktang pag-iniksyon sa naaangkop na temperatura ng solong kristal na substrate, na kinokontrol ang ang pag-scan ng substrate nang sabay, maaari itong gumawa ng mga molekula o atomo sa mga layer ng pagkakahanay ng kristal upang mabuo ang isang manipis na pelikula sa isang "paglago" ng substrate.

Para sa normal na pagpapatakbo ng kagamitan ng MBE, ang mataas na kadalisayan, mababang presyon at ultra-malinis na likidong nitrogen ay kinakailangan na patuloy at matatag na transportasyon sa silid ng paglamig ng kagamitan. Sa pangkalahatan, ang isang tangke na nagbibigay ng likidong nitrogen ay may presyon ng output sa pagitan ng 0.3MPa at 0.8MPa. Ang likidong nitrogen sa -196 ℃ ay madaling ma-singaw sa nitrogen sa panahon ng transportasyon ng pipeline. Kapag ang likidong nitrogen na may ratio na gas-likido na humigit-kumulang na 1: 700 ay gasified sa pipeline, sasakupin nito ang isang malaking halaga ng likidong daloy ng nitrogen flow at bawasan ang normal na daloy sa pagtatapos ng likidong likido na nitrogen. Bilang karagdagan, sa likidong tangke ng imbakan ng nitrogen, malamang na may mga labi na hindi nalinis. Sa likidong pipeline ng nitrogen, ang pagkakaroon ng wet air ay hahantong din sa pagbuo ng ice slag. Kung ang mga impurities na ito ay naipalabas sa kagamitan, magdudulot ito ng hindi mahuhulaang pinsala sa kagamitan.

Samakatuwid, ang likidong nitrogen sa panlabas na tangke ng imbakan ay dinadala sa kagamitan ng MBE sa workshop na walang alikabok na may mataas na kahusayan, katatagan at malinis, at ang mababang presyon, walang nitrogen, walang mga impurities, 24 na oras na walang patid, ang naturang sistema ng kontrol sa transportasyon ay isang kwalipikadong produkto.

Pagtutugma ng kagamitan sa MBE

Mula noong 2005, ang HL Cryogenic Equipment (HL CRYO) ay na-optimize at pinapabuti ang sistemang ito at nakikipagtulungan sa mga internasyonal na tagagawa ng kagamitan ng MBE. Ang mga tagagawa ng kagamitan ng MBE, kabilang ang DCA, REBER, ay may mga ugnayan sa kooperatiba sa aming kumpanya. Ang mga tagagawa ng kagamitan ng MBE, kabilang ang DCA at REBER, ay nakipagtulungan sa isang malaking bilang ng mga proyekto.

Ang Riber SA ay isang nangungunang pandaigdigang tagapagbigay ng mga produktong molekular beam epitaxy (MBE) at mga kaugnay na serbisyo para sa pagsasaliksik ng tambalan na semiconductor at pang-industriya na aplikasyon. Ang aparato ng Riber MBE ay maaaring magdeposito ng napaka manipis na mga layer ng materyal sa substrate, na may napakataas na kontrol. Ang kagamitan sa vacuum ng HL Cryogenic Equipment (HL CRYO) ay nilagyan ng Riber SA Ang pinakamalaking kagamitan ay Riber 6000 at ang pinakamaliit ay Compact 21. Ito ay nasa mabuting kalagayan at kinikilala ng mga customer.

Ang DCA ang nangungunang oxide MBE sa buong mundo. Mula noong 1993, natupad ang sistematikong pagpapaunlad ng mga diskarte sa oksihenasyon, isinagawa ang pagpainit ng antioxidant substrate at mga mapagkukunang antioxidant. Sa kadahilanang ito, maraming nangungunang mga laboratoryo ang pumili ng teknolohiyang DCA oxide. Ang mga komposit na semiconductor MBE system ay ginagamit sa buong mundo. Ang VJ likidong nitrogen na nagpapalipat-lipat na sistema ng HL Cryogenic Equipment (HL CRYO) at ang kagamitan ng MBE ng maraming mga modelo ng DCA ay may kaparehong karanasan sa maraming mga proyekto, tulad ng modelong P600, R450, SGC800 atbp.